等離子清洗機(jī)等離子體為什么具有鞘層現(xiàn)象？因?yàn)榈入x子體在開(kāi)始時(shí)處在準(zhǔn)電中性狀態(tài)，如果在等離子體中懸浮一個(gè)不導(dǎo)電的絕緣基板，此時(shí)等離子體中的離子與電子都會(huì)朝著這個(gè)基板運(yùn)動(dòng)，單位時(shí)間內(nèi)到達(dá)基板上的電子數(shù)要遠(yuǎn)大于離子個(gè)數(shù)。到達(dá)基板的電子一部分與離子復(fù)合，還有一部分剩余，從而在基板出現(xiàn)凈負(fù)電荷積累，這樣基板表面呈負(fù)電勢(shì)。該負(fù)電勢(shì)將排斥后續(xù)電子，同時(shí)吸引正離子。直到基板負(fù)電勢(shì)達(dá)到某個(gè)值，使離子流與電子流相等時(shí)為止。由于基板呈負(fù)電勢(shì)，則在基板與等離子體交界處形成一個(gè)由正離子構(gòu)成的空間電荷層，即離子鞘層。
等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。
等離子體清洗可以不分處理對(duì)象，它可以處理各種各樣的材質(zhì)，無(wú)論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物，還是高分子材料（如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹(shù)脂等高聚物）都可以使用等離子體來(lái)處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗。